《새로운 과학기술분야를 개척하기 위한 사업도 전망성있게 밀고나가야 합니다.》 (
최근
일반적으로 3차원모형을 보다 실물에 가깝게 생성하기 위하여 STL(Stereo lithography)화일을 작성할 때 그물분할을 매우 조밀하게 할 필요가 제기된다.
STL은 1989년에 제기된 한가지 자료형식으로서 유한요소의 그물방식과 비슷하며 많은 3각형면들을 리용하여 3차원실체면을 근사시키는 자료모형이다. STL화일을 작성하기 위하여 분할을 조밀하게 하면 분할점들의 개수가 많아지면서 그에 해당한 STL화일의 크기가 기하급수적으로 늘어난다.
지난 시기 제기된 분층화알고리듬들에서는 3각형의 요소수가 많아지면 기억기크기가 커지고 처리시간이 늘어나는 결함들이 있었다.
이로부터 우리는 3각형요소의 수가 증가하는데 관계없이 모형의 분층화를 실현하기 위한 한가지 알고리듬을 제기하고 프로그람을 개발하였다.
알고리듬에서는 매 요소3각형들에 대하여 가능한 절단면륜곽계산을 진행하고 높이에 따라 분류한것으로 하여 지난 시기 해당 높이에 따라 요소3각형을 순환하면서 절단면륜곽을 계산할 때보다 계산회수를 줄여 STL화일의 크기에 관계없이 륜곽선생성을 진행하고 분층화처리속도도 개선하였다.
개발한 분층화프로그람은 《Windows 7》 이상의 모든 조작체계에서 동작한다. 개발한 분층화프로그람은 화일크기가 5Mbyte 이하인 STL모형에 대하여 분층화시간은 종전과 대비해 볼 때 10s이하로서 비슷하지만 25Mbyte이상인 3차원모형에 대한 분층화시간은 종전보다 1/2이하로 줄어들었다.
